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晶体管新技术未来展望

2002年12月19日 13:35

北京DSP培训

日前.AMD公司一位高级研究员在接受《Spectrum》杂志采访是表示高性能微处理器业务也是AMD业务的一部分.今后也将致力于用新的技术取代平面式CMOS晶体管应用..但包括摩托罗拉在内的从事低能耗芯片制造业务的公司或许会率先采用双栅极设备.原因是他们的在控制电流泄漏的领域具有无和伦比的优势.而控制电流泄漏对于手持产品来说相当重要..

他还表示.除了减小通道效应和设备能源泄漏之外.其它的问题也须解决..随着电场线间距越来越窄.源和漏极系统越来越小.晶体管的通道电阻也将增大.这将增加能耗并降低产品性能..随着更多的晶体管采用更高的工作频率.集成电路能耗也将增加..晶体管在制造过程中所能承受的发热量将减小.这使得对其添加掺杂保护涂层的工作难度变得越来越大..然后就是产品可制造性问题..

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